高速光电探测器芯片及光器件产业化项目（一期工程）

建设项目基本信息
项目名称：（略）
建设性质新建环评文件类型报告表
行业类别（分类管理名录）080-电子器件制造行业类别（国民经济代码）C3976-光电子器件制造
项目类型污染影响类工程性质非线性
建设地点：（略）
环评文件审批机关徐州经济技术（略）
环评批复时间（略）
（略）无排污许可批准时间（略）
项目实际总投资(万元)3000.0项目实际环保投资(万元)61.5
验收监测(调查)（略）验收监测(调查)报告编制机构社会信用代码（或组织机构代码）（略）MA20WTCA2N
运营单位：（略）
（略）验收监测单位：（略）
竣工时间（略）验收监测时工况无
调试起始时间（略）调试结束时间（略）
验收报告公开起始时间（略）验收报告公开结束时间（略）
（略）站（略）.aspx?category_id=106自验信息提交时间（略）
表1水污染治理设施
（略）设施名称：（略）
1本项目生产废水中有机废水经企业有机废水预收集池收集后进（略）（略）进行“芬顿氧化+絮凝沉淀”预处理，含氟废水经企业含氟废水预收集池收集后进（略）（略）进行“混凝絮凝+沉淀”预处理，碱性废水经企业碱性废水预收集池收集后进（略）（略）进行“破络+中和+絮凝沉淀”综合预处理，所有生产废水（略）分质预处理后一同（略）污水处理厂生化单元“综合调节+水解酸化+缺氧耗氧+二级沉淀”工艺处理达标后接管至大庙污水处理厂进一步处理，生活污水经化粪池处理后接管至大庙污水处理厂进一步处理，纯水制备浓水不经处理即可达标排放，接管至大庙污水处理厂进一步处理。本项目有机废水、含氟废水、碱性废水分类收集，由专管接入凤凰湾电子信息产业园污水处理厂处理达标后接入大庙污水处理厂深度处理。项目接入凤凰电子信息产业园污水处理厂接管废水指标限值及《电子工业水污染物排放标准》（GB（略））相关标准限值，外排生活污水及纯水制备浓水排放须满足《电子工业水污染物排放标准》（GB（略））、《污水排入城镇下水道水质标准》（GB/T（略））相关标准限值及大庙污水处理厂接管标准本项目生产废水中有机废水经企业有机废水预收集池收集后进（略）（略）进行“芬顿氧化+絮凝沉淀”预处理，含氟废水经企业含氟废水预收集池收集后进（略）（略）进行“混凝絮凝+沉淀”预处理，碱性废水经企业碱性废水预收集池收集后进（略）（略）进行“破络+中和+絮凝沉淀”综合预处理，所有生产废水（略）分质预处理后一同（略）污水处理厂生化单元“综合调节+水解酸化+缺氧耗氧+二级沉淀”工艺处理达标后接管至大庙污水处理厂进一步处理，生活污水经化粪池处理后接管至大庙污水处理厂进一步处理，纯水制备浓水不经处理即可达标排放，接管至大庙污水处理厂进一步处理。验收监测结果表明：验收监测期间，有机废水排口、碱性废水排口检测项目pH值、化学需氧量、悬浮物、氨氮、总磷、总氮、全盐量浓度均满足凤凰湾电子信息产业园污水处理厂接管标准；含氟废水排口检测项目pH值、化学需氧量、悬浮物、氨氮、总磷、总氮、全盐量、氟化物浓度均满足凤凰湾电子信息产业园污水处理厂接管标准；生活污水排口检测项目pH值、化学需氧量、悬浮物、氨氮、总磷、总氮浓度同时满足《电子工业水污染物排放标准》（GB（略））、《污水排入城镇下水道水质标准》（GB/T（略））相关标准限值及大庙污水处理厂接管标准；纯水制备浓水排口检测项目pH值、化学需氧量、悬浮物、氨氮、总磷、总氮、全盐量浓度同时满足《电子工业水污染物排放标准》（GB（略））、《污水排入城镇下水道水质标准》（GB/T（略））相关标准限值及大庙污水处理厂接管标准。达标
表2大气污染治理设施
（略）设施名称：（略）
1一期工程未建设ICP刻蚀，PECVD工艺尾气废气经“高温燃烧+水洗+碱喷淋塔”装置处理达标后通过一根28米高排气筒排放（DA001）；固化、高温烘烤工序产生的有机废气经“二级活性炭”吸附处理装置处理达标后通过1根30米高排气筒（DA002）排放；光刻、有机溶剂清洗、HMDS预处理、背面减薄等工序产生的有机废气经“二级活性炭”吸附处理装置达标后通过1根28m高排气筒（DA003）排放；酸洗、扩散工序产生的酸性废气经碱喷淋塔中和处理达标后通过1根28米高排气筒（DA004）排放；危废暂存间（2-4号）产生的有机废气经“一级活性炭”吸附处理装置处理达标后通过1根15米高排气筒（DA005）排放；危废暂存间（2-1号）产生的酸性废气经“碱喷淋”装置处理达标后通过1根15米高排气筒（DA006）排放。项目氮氧化物、氯化氢、硫酸雾、氟化物、非甲烷总烃、TVOC、苯系物、异丙醇、氨气排放须满足《半导体行业污染物排放标准》（DB32/（略））表3、表4相应限值，颗粒物及无组织排放的氮氧化物、氟化物、苯系物排放须满足《大气污染物综合排放标准》（DB32/（略））中相关限值，非甲烷总烃无组织排放须满足《挥发性有机物无组织排放控制标准》（GB（略））表A.1中特别排放限值。一期工程未建设ICP刻蚀，PECVD工艺尾气废气经“高温燃烧+水洗+碱喷淋塔”装置处理达标后通过一根28米高排气筒排放（DA001）；固化、高温烘烤工序产生的有机废气经“二级活性炭”吸附处理装置处理达标后通过1根30米高排气筒（DA002）排放；光刻、有机溶剂清洗、HMDS预处理、背面减薄等工序产生的有机废气经“二级活性炭”吸附处理装置达标后通过1根28m高排气筒（DA003）排放；酸洗、扩散工序产生的酸性废气经碱喷淋塔中和处理达标后通过1根28米高排气筒（DA004）排放；危废暂存间（2-4号）产生的有机废气经“一级活性炭”吸附处理装置处理达标后通过1根15米高排气筒（DA005）排放；危废暂存间（2-1号）产生的酸性废气经“碱喷淋”装置处理达标后通过1根15米高排气筒（DA006）排放。验收监测结果表明：验收监测期间，有组织废气中氮氧化物、氯化氢、硫酸雾、氟化物、非甲烷总烃、TVOC、苯系物、异丙醇、氨气排放浓度均满足《半导体行业污染物排放标准》（DB32/（略））表3相应限值。厂界无组织废气颗粒物、氮氧化物、氟化物、苯系物排放浓度均满足《大气污染物综合排放标准》（DB32/（略））表3限值；非甲烷总烃、氨、氯化氢、硫酸雾无组织排放浓度均满足《半导体行业污染物排放标准》（DB32/（略））表4相应限值。厂区内无组织废气非甲烷总烃排放浓度执行《挥发性有机物无组织排放控制标准》（GB（略））附录A中表A.1规定的限值。达标
表3噪声治理设施
（略）设施名称：（略）
1选用低噪声设备，对产生高噪声源的设备通过合理布局、隔声、减振、绿化吸声等降噪措施满足《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB（略））3类标准限值选用低噪声设备，对产生高噪声源的设备通过合理布局、隔声、减振、绿化吸声等降噪措施验收监测结果表明：验收监测期间，厂界4个测点昼间噪声监测值在57.5-60.8dB（A），夜间噪声监测值在48.4-51.7dB（A），能够满足《工业企业厂界环境噪声排放标准》（GB（略））3类标准限值。达标
表4地下水污染治理设施
表5固废治理设施
表6生态保护设施
表7风险设施