中标信息成交供应商:
(略)
选择理由:满足设备参数要求,且报价最低。
质疑投诉说明:如有质疑,请在三个工作日内将质疑说明文件(纸质)递交至国有资产与实验室管理处采购管理科,逾期不予受理。
项目名称:
(略)
(略)CG
(略)
公告发布日期2024/06/1109:46报价截止时间2024/06/1609:46
报价截止时间2024/06/1609:46
采购单位:
(略)
付款条款合同生效后发货前预付50%,货到验收合格后支付50%
联系人:
(略)
联系手机中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务否是否需要踏勘否
是否需要踏勘否
踏勘联系人:
(略)
踏勘联系电话:
(略)
踏勘地点:
(略)
踏勘联系时间
采购预算¥193,000.00成交金额¥191,000.00
成交金额¥191,000.00
送货/施工/服务期限合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地
(略)二
付款条款合同生效后发货前预付50%,货到验收合格后支付50%
其他说明1、货物服务类竞价项目,进口产品收取成交金额3%的履约保证金,特殊情况另行约定。
采购清单1采购内容是否进口计量单位:
(略)
PVD500磁控溅射薄膜沉积设备否台1质保1年。¥191,000.00
(略)不限定品牌
技术参数要求PVD500磁控溅射薄膜沉积设备。设备极限真空度:≤5x10-5Pa(经烘烤除气后);30分钟可达到5x10-4Pa;5个2英寸溅射靶枪,镀膜时工作真空度:0.1~10Pa;加热方式:
(略)
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