中电商务(北京)
(略)受招标人:
(略)
(略)ZLCP10001/02彩膜涂布装置5台设备用途及基本要求:本设备是把制程所需要的光刻胶均匀地涂布到基板上并进行干燥的设备。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY20000/USD3250
(略)ZLCP10001/03阵列涂胶显影装置6台设备用途及基本要求:该设备用于阵列制程,以在基板上形成光刻胶和有机绝缘膜材料的图形为目的,具有以下功能:①基板洗净、干燥的功能。②在基板上均匀涂胶(有机绝缘膜材料或光刻胶材料)的功能。③干燥、烘烤涂胶后基板的功能。④显影曝光后基板的功能。⑤烘烤显影后基板(仅用于光刻胶材料制程)的功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY25000/USD4050
(略)ZLCP10001/04阵列干刻装置4台设备用途及基本要求:本设备用于阵列制程中,当玻璃基板成膜(a-Si、N+、SiNx、SiO2)形成光阻图案后,以干法刻蚀加工为目的,它具有以下功能:◇设备内真空排气功能。◇设备内的基板向各腔室真空搬送功能。◇原料气体分解成等离子体,对成膜后(a-Si、N+、SiNx、SiO2)的基板进行刻蚀的功能。◇设备内进行大气Vent的功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY25000/USD4050
(略)ZLCP10001/07阵列像素电性检查装置5台设备用途及基本要求:本设备在高真空的腔体内使用Probe
(略),改变像素的驱动状态。使用电子束扫描各个像素,检出产生的二次电子。通过对检出二次电子进行分析,实现缺陷的检出以及判定。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY5000/USD850
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人应是响应招标、已在招标机构处领购招标文件,并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家
(略)(美元):
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