中电商务(北京)
(略)受招标人:
(略)
(略)ZLCP10001/05阵列物理气相沉积装置5台设备用途及基本要求:该设备在真空腔室中利用物理气相沉积的方法在玻璃基板表面形成金属薄膜、氧化物薄膜、铟锡氧化物薄膜。主要具有以下功能:·设备内真空排气的功能。·设备内基板在各腔体中真空搬送的功能。·基板加热功能。·利用物理气相沉积的方法将靶材材料沉积在基板表面的功能。·设备内大气放气的功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY25000/USD4050
(略)ZLCP10001/06阵列化学气相沉积装置6台设备用途及基本要求:该设备在真空腔室中利用化学气相沉积的方法在玻璃基板表面形成SiNx、SiOx、a-Si、n+a-Si薄膜。主要具有以下功能:设备内真空排气的功能。设备内基板向各腔室真空搬送功能。基板加热功能。电浆分解后的原料气体在基板表面可进行化学气相沉积的功能。设备内大气Vent的功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY25000/USD4050
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人应是响应招标、已在招标机构处领购招标文件,并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家
(略)(美元):
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