中电商务(北京)
(略)受招标人:
(略)
(略)ZLCP10001/01阵列&彩膜扫描曝光装置8台设备用途及基本要求:本装置适用于Array制程中涂有正性光阻、有机膜的基板,或CF制程中涂有负性光阻的基板,进行曝光处理形成图形,并具有对位﹑自动对焦﹑曝光﹑基板和光罩搬送等功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY30000/USD4850
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人应是响应招标、已在招标机构处领购招标文件,并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家
(略)(美元):
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