杭州市北京航空航天大学国际创新研究院（北京航空航天大学国际创新学院）8英寸大面积电子束曝光机项目允许采购进口产品的公示

公示简要情况说明：
一、采购人：（略）
二、（略）：importedProduct（略）42545
三、采购项目名称：（略）
四、采购组织类型：
五、采购项目概况：
标的名称：（略）
预算金额(元)：（略）
数量：1
单位：（略）
货物或服务的说明:拟采购的8英寸大面积电子束曝光机设备是芯片制造微纳米技术重要工艺设备之一，属于高粘密设备。可实现纳米级图形化加工，是利用电子束扫描将设计的图案直接光刻在涂有光刻胶的衬底材料上，辅以刻蚀/剥离制程实现图案的转移以及微纳结构的制备。（略）制造中最复杂和最关键的设备之一，其（略）的集成度，光源的波长是影响光刻精度的主要原因，高能电子的波长较小，电子束光刻的加工精度可达到10nm以内，适用于高分辨率电子束光刻工艺，并可对纳米结构进行精确的成像度量，在高度掩模制备、原型器件开发、小批量生产以及多个学科的基础研究中有着不可替代的作用，对于微纳结构形状多样化和极端精度要求的基础科学研究和定制化加工应用有重要意义，对新原理/新器件、（略）设计、（略）、生物医学电子、存-算融合计算架构和芯片、量子计算芯片等，以及相关交叉领域的基础研究和应用研究尤为重要。
六、符合上述采购要求的进口产品产地、品牌（一家及以上）：
（略）品牌/厂家产地
1//
七、申请理由：
8英寸大面积电子束曝光机属于高性能指标机型，（略）场上可满足性能指标要求的厂家只有进口品牌的厂家，主要有德国Raith公司、日本JEOL公司、日本Crestec公司、英国NanoBeam公司四家在该领域有一定的造诣，均集成有激光于涉样品台，可实现大面积纳米结构的加工，并且在向大面积、高电压、小束斑、高精度、智能化的方向发展。针对该设备国产化，国内具有一定的研究基础，但其中一些关键零部件无法进行自主化制备，关键参数一直达不到国际先进水平，分辨率、套刻精度、及拼接度尚处于百纳米的阶段，且自动化程度低，设备性能及可靠性低，主要为实验教学用设备，整体而言，目前国内类似设备与所调研的进口设备之间存在较大差距，主要体现在五个方面：热场效应电子源高加速电压、高扫描速度、激光于涉仪高精度定位以及高精度偏转补偿体系。因此目前国内设备无法满足该项目科研及教学要求。
八、论证专业人员信息及意见：
专业人员姓名专家人员职称专业人员工作单位：（略）
（略）
焦海龙高级工程师航天科技集团九院704所
杨阳研究员中国科学院深海科学与工程研究所
田义超研究员杭州极弱磁场国家重大科技基础设施研究院
戚枭栋律师浙江泽怀律师事务所
专业人员对进口产品技术性能先进性、采购必要性的论证意见：
专家组听取了仪器采购单位：（略）
九、其它事项：
1、本项目公告期限为5个工作日，供应商对该项目拟采购进口产品及其理由和相关需求有异议的，可以在公示期限内（截止时间为本公示发布之日后的第6个工作日），以书面形式向采购人：（略）
2、其他事项
十、联系方式：（略）
1.采购人：（略）
名称：（略）
联系人：（略）
联系电话：（略）
传真：/
地址：（略）
2.同级政府采购监督管理部门名称：（略）
联系人：（略）
监管部门电话：（略）5
传真：/
地址：（略）
附件信息:
采购进口产品专家论证意见表-8英寸大面积电子束曝光机.pdf(2.2M)
采购进口产品申请核准表-8英寸大面积电子束曝光机.pdf(1.5M)
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